معرفی دستگاه XRF و بخش های اصلی دستگاه XRF


معرفی دستگاه XRF

دستگاه-xrf2
برای اندازه گیری مقدار عناصر دو روش وجود دارد یکی روش هاي شيمي تجزيه كه عمدتاً از تيتراسيون استفاده مي شود و دیگری روش ها تجزيه غير مخرب بوسيله اشعه X كه اصطلاحاً به آن XRF گفته مي شود كه مخفف كلمه X Ray Fluorescence مي باشد. مزيت استفاده از XRF نسبت به روش هاي شيميايي سرعت بالا و هزينه پايين و دقت قابل قبول است. XRF دستگاهي است براي اندازه گيري طول موج و شدت امواج فلورسانس ساطع شده از اتم هاي مختلف در نمونه كه نتيجه آن شناسايي نوع و ميزان عناصر ماده مي باشد. دستگاه XRF كاربرد وسيعي در بسياري از علوم دارد و امروزه به علت پيشرفت هاي شگرف در اين زمينه بصورت يكي از وسايل ضروري در آزمايشگاه هاي پژوهشي در آمده است. XRF با سرعت عمل بسيار زياد قادر است عناصر بسياري را به صورت كيفي و كمّي مورد آناليز قرار دهد. به علت سرعت زياد و عدم مصرف مواد شيميايي روش ارزاني نسبت به بقيه روش هاي آناليزي بوده و محيط زيست را نيز آلوده نمي سازد

بخش های اصلی دستگاه XRF
•    منبع x-ray
•    نگهدارنده نمونه
•    کلیماتور (Collimator)
•    کریستال آنالیز کننده
•    دتکتور یا آشکار ساز

 

 اساس کار دستگاه XRF
در دستگاه فلوئورسانس اشعه ایکس XRF، نمونه آنالیز به صورت جامد یا مایع در معرض اشعه پر قدرت X (اشعه ایکس اولیه) قرار می گیرد. همانطور که می دانیم بیشتر اتم ها چندین لایه اوربیتال االکترونی ( لایه K،L،M و …) دارند. در دستگاه XRF هنگامی که پرتویی با انرژی بالا (طول موج کم) مانند اشعه X به اتم ها تابیده می شود انتقال الکترون از لایه های درونی تر به لایه های بالاتر صورت می گیرد. این انتقال الکترون به لایه های بالاتر باعث به وجود آمدن یک حفره خالی در لایه درونی اتم می شود و یک حالت ناپایدار ایجاد می گردد. در نتیجه ناپایداری اتم، یک الکترون از میان لایه ها ی خارجی تر به درون این حفره منتقل می شود. انتقال الکترون به درون حفره در لایه پایینتر با آزاد شدن انرژی همراه می باشد. این انرژی به صورت نور آزاد شده و مقدار آن برابر با اختلاف انرژی بین دولایه ای می باشد که الکترون روی آنها جابجا میشود. این پرتو همان تابش فلورسانس اتم می باشد که اصطلاحا اشعه ایکس ثانویه نامیده می شود و انرژی کمتر از پرتو X اولیه دارد. اساس کار با دستگاه XRF اندازه گیری انرژی و شدت این پرتو X ثانویه می باشد. اندازه گیری پرتو X ثانویه به دو روش WDS و EDS انجام میگیرد. در روش EDS هنگامی که پرتو X ثانویه از نمونه منتشر می شود، شدت و انرژی آن مستقیما توسط دتکتور اندازه گیری می شود. اما در روش WDX  ابتدا پرتو توسط یک کلیماتور (Collimator) به صورت موازی درآمده و سپس با برخورد به یک بلور آنالیز کننده (معمولا فلورید سدیم NaF) همانند آنچه در دستگاه XRD اتفاق می افتد بازتابش یافته و  توسط دتکتور اندازه گیری می شود.

 

کاربرد های طیف سنجی فلورسانس اشعه ایکس (XRF)
فلورسانس اشعه ایکس در یک طیف گسترده ای از کاربرد ها استفاده می شود، از جمله :

دستگاه-xrf
•  پژوهش در آذرین، رسوبی، دگرگونی و پترولوژی
•   بررسی خاک
•  استخراج (به عنوان مثال، اندازه گیری درجه از سنگ معدن)
•  تولید سیمان
•   تولید سرامیک و شیشه
•  متالورژی (به عنوان مثال، کنترل کیفیت)
•  مطالعات زیست محیطی (برای مثال، آنالیزذرات در فیلتر هوا)
•   صنعت نفت (به عنوان مثال، گوگرد نفت خام و فرآورده های نفتی)
•   آنالیز میدانی در مطالعات زمین شناسی و زیست محیطی (با استفاده از اسپکترومتر XRF قابل حمل، دستی)
فلورسانس اشعه ایکس به خصوص به خوبی برای تحقیقات که شامل موارد زیر است مناسب است:
•  آنالیز شیمیایی بالک عناصر اصلی (سیلیسیم، تیتانیم، آلومینیم، آهن، منگنز، منیزیم، کلسیم، سدیم، پتاسیم، فسفر ) در سنگ و رسوب
•   آنالیز شیمیایی بالک عناصر (در فراوانی کمتر از یک پی پی ام ؛ باریم ، سریم ، کبالت، کرم، مس، گالادیم، لانتانیوم ، نیوبیوم ، نیکل، روبیدیوم، ارشد، استرانسیم، روهمیم، U، V، Y، Zr و Zn) در سنگ و رسوب – تشخیص محدودیت برای عناصر کمیاب معمولا به تریب چند قسمت در میلیون است.

بدون دیدگاه

دیدگاهتان را بنویسید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *